カリキュラムモデル
分類番号 E203-006-2
| 訓練分野 | 電気・電子系（E） |
|---|---|
| 訓練コース | 半導体製造装置 |
| 訓練対象者 | 半導体デバイスの設計・製造に従事する者 |
| 訓練目標 | 半導体製造装置の原理から構成、現状、課題等について習得する。 |
| 教科の細目 | 内容 | 訓練時間（H） |
|---|---|---|
| １．洗浄装置 | （１）洗浄の基本シーケンス （２）洗浄装置とその分類 |
2 |
| ２．酸化装置 | （１）酸化装置の基本構成 | 2 |
| ３．拡散装置 | （１）不純物拡散の実際と装置 | 2 |
| ４．イオン注入装置 | （１）イオン注入装置の分類 （２）イオン注入装置の構成 |
2 |
| ５．アニール装置 | （１）アニール装置の分類 （２）ランプアニール装置とその構成 （３）ＲＴＰ装置 |
2 |
| ６．ＣＶＤ装置 | （１）ＣＶＤ装置の分類 （２）ＡＰＣＶＤ （３）ＬＰＣＶＤ （４）ＰＥＣＶＤ |
2 |
| ７．ＰＶＤ装置 | （１）ＰＶＤ装置の基本原理 （２）ＰＶＤ装置の分類 |
2 |
| ８．エッチング装置 | （１）ドライエッチング装置の分類 （２）ドライエッチング装置の構成 （３）ウエットエッチング装置の分類 （４）ウエットエエッチング装置の構成 |
2 |
| ９．リソグラフィ装置 | （１）露光装置の諸方式 （２）露光装置各論 （３）ステッパの構成 |
2 |
| 訓練時間合計 | 18 |
| 使用器具等 | ＶＴＲ（ソフト） |
|---|