カリキュラムシート
分類番号 A304-004-A
| 訓練分野 | 電気・電子系 |
|---|---|
| 訓練コース | 半導体プロセスフォトリソ工程技術 |
| 訓練対象者 | 半導体製造装置又は半導体デバイスの設計・製造に従事する技能・技術者等であって、指導的・中核的な役割を担う者又はその候補者 |
| 訓練目標 | デバイス設計の生産性の向上をめざして、効率化、適正化、最適化（改善）に向けた各種膜へのパターニング実習を通して、フォトリソ工程の構成、特性、特徴及びフォトリソ用装置の原理・構造、特性を習得する。 |
| 教科の細目 | 内容 | 訓練時間（H） | うち実習・ まとめ（H） |
|---|---|---|---|
| １．コース概要及び留意事項 | （１）コースの目的 （２）専門的能力の現状確認 （３）安全上の留意事項 |
0.5 | |
| ２．フォトリソ工程の基本 | （１）露光、現像の原理、特性 （２）ウエット・エッチングとドライ・エッチングの原理、特性 |
1 | |
| ３．フォトリソ工程用装置 | （１）露光装置の原理、構造、特性 （２）ウエット・エッチング装置の原理、構造、特性 （３）ドライ・エッチング装置の原理、構造、特性 （４）安全教育 |
3 | 2 |
| ４．パターニング実習 | （１）アルミ膜、ポリシリ膜、シリコン窒化膜などへのパターニング実習 イ．露光、現像実習 ロ．エッチング特性評価実習 |
13 | 13 |
| ５．まとめ | （１）実習の全体的な講評及び確認・評価 |
0.5 | 0.5 |
| 訓練時間合計 | 18 | 15.5 |
| 使用器具等 | 両面露光器、スピナー、ベーク炉、現像装置、エリプソメータ、表面段差計、エッチング装置、金属顕微鏡 |
|---|---|
| 養成する能力 | 生産性の向上を実現できる能力 |
| 改訂日 | 2021.08 |