カリキュラムシート
分類番号 A304-003-A
| 訓練分野 | 電気・電子系 |
|---|---|
| 訓練コース | 半導体プロセス成膜工程技術 |
| 訓練対象者 | 半導体製造装置又は半導体デバイスの設計・製造に従事する技能・技術者等であって、指導的・中核的な役割を担う者又はその候補者 |
| 訓練目標 | デバイス設計の生産性の向上をめざして、効率化、適正化、最適化（改善）に向けた各種成膜作成実習を通して、半導体製作に必要な各種成膜工程の構成、特性、特徴及び各種成膜装置の原理・構造、特性等を習得する。 |
| 教科の細目 | 内容 | 訓練時間（H） | うち実習・ まとめ（H） |
|---|---|---|---|
| １．コース概要及び留意事項 | （１）訓練コースの概要説明 （２）専門的能力の現状確認 （３）安全上の留意事項 |
0.5 | |
| ２．成膜の原理 | （１）ＣＶＤによる成膜の原理、特性 （２）ＰＶＤによる成膜の原理、特性 |
1.5 | 1 |
| ３．成膜装置 | （１）ＣＶＤ装置の原理、構造、特性 （２）ＰＶＤ装置の原理、構造、特性 |
2 | 1 |
| ４．アルミ成膜実習 | （１）アルミ膜厚のフィラメント電流・時間依存性 （２）アルミ膜の特性評価 |
4 | 3 |
| ５．ポリシリ成膜実習 | （１）ポリシリ成膜速度の温度・時間・ガス圧依存性 （２）ポリシリ膜の特性評価 |
8 | 7.5 |
| ６．シリコン窒化膜成膜実習 | （１）シリコン窒化膜成膜速度の温度・時間・ガス圧依存性 （２）シリコン窒化膜の特性評価 |
7 | 6.5 |
| ７．まとめ | （１）実習の全体的な講評及び確認・評価 |
1 | 1 |
| 訓練時間合計 | 24 | 20 |
| 使用器具等 | 減圧ＣＶＤ装置、真空蒸着装置、表面段差計、エリプソメータ、抵抗率測定器、エッチング装置 |
|---|---|
| 養成する能力 | 生産性の向上を実現できる能力 |
| 改訂日 | 2020.09 |